انتشار مقاله اعضاء هیات علمی دانشگاه صنعتی قوچان در مجله معتبر JOURNAL OF COLLOID AND INTERFACE SCIENCE APPLICATION

۲۰ شهریور ۱۴۰۲ | ۰۹:۳۶ کد : ۱۷۶۱ اخبار دانشگاه
تعداد بازدید:۱۸۳
به گزارش روابط عمومی دانشگاه صنعتی قوچان، مقاله جناب آقایان دکتر علی فرزانه و مجتبی ساعی مقدم اعضاء محترم هیات علمی دانشگاه صنعتی قوچان در مجله معتبر JOURNAL OF COLLOID AND INTERFACE SCIENCE APPLICATION منتشر شد.
انتشار مقاله اعضاء هیات علمی دانشگاه صنعتی قوچان در مجله معتبر JOURNAL OF COLLOID AND INTERFACE SCIENCE APPLICATION

به گزارش روابط عمومی دانشگاه صنعتی قوچان، مقاله جناب آقایان دکتر علی فرزانه و مجتبی ساعی مقدم اعضاء محترم هیات علمی دانشگاه صنعتی قوچان با عنوان:

Low-temperature propane oxidative dehydrogenation over UiO-66 supported vanadia catalysts: Role of support confinement effects

در مجله معتبر JOURNAL OF COLLOID AND INTERFACE SCIENCE APPLICATION منتشر شد.

طبق گزارش پایگاه JCR نشریه مذکور دارای ضریب تاثیر 9.9 است و در چارک کیفی اول (Q1) قرار دارد.

کسب این موفقیت را به ایشان و خانواده دانشگاه صنعتی قوچان تبریک عرض نموده و از درگاه خداوند متعال برای ایشان توفیق روز افزون مسئلت داریم.